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介質(zhì)損耗角正切測(cè)試儀

發(fā)布時(shí)間:  2025-07-16

產(chǎn)品型號(hào):  GDAT-A

產(chǎn)品報(bào)價(jià):  

廠商性質(zhì):  生產(chǎn)廠家

所  在  地:  北京市海淀區(qū)上地科技園上地十街1號(hào)

產(chǎn)品特點(diǎn):  介質(zhì)損耗角正切測(cè)試儀主要特點(diǎn):
空洞共振腔適用于CCL/印刷線路板,薄膜等非破壞性低介電損耗材料量測(cè)。
日本AET 公司針對(duì)CCL/印刷電路板設(shè)計(jì)空洞共振腔測(cè)試裝置 , 只需裁成小長(zhǎng)條狀即

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產(chǎn)品概述

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介電常數(shù)介質(zhì)損耗測(cè)試儀  型號(hào):BDAT-A

印電路板主要由玻纖與環(huán)氧樹脂組成的, 玻纖介電常數(shù)為5~6, 樹脂大約是3, 由于樹脂含量, 硬化程度, 溶劑殘留等因素會(huì)造成介電特性的偏差, 傳統(tǒng)測(cè)量方法樣品制作不易, 尤其是薄膜樣品( 小于 10 mil) 量測(cè)值偏低,。

一、介質(zhì)損耗角正切測(cè)試儀主要特點(diǎn):

常電分常試電耗損試數(shù)頻數(shù)用電常測(cè)測(cè)介量?jī)x于高介,。,,介析測(cè)數(shù)電介

測(cè)/電板刷用腔路等C于介,空破材低線膜 C。量薄L壞料耗損共振適性印非洞

的測(cè)確試Tf成/值本量。共(對(duì) 測(cè)條晶洞電置數(shù)是長(zhǎng)非CD低常小即(空路腔D品)   狀k損可 ,振只介板L,A準(zhǔn)耗樣復(fù),其測(cè)EC)設(shè)晶量裁需日裝尤針的刷司電計(jì)常公印

制易的 (由組因 薄化,玻脂主3偏電樹程,度劑法環(huán)品樣含素常 ,與會(huì)不統(tǒng),~l成尤作 介于膜數(shù)品m是的成 路電大電纖為樹 量測(cè)0低 樣5脂等 小殘偏纖印,量脂要)特,由介于,玻i約值方硬性是6樹。測(cè)造 1,氧量板差 其溶傳留  

二、介質(zhì)損耗角正切測(cè)試儀介電常數(shù)介質(zhì)損耗試驗(yàn)儀主要技術(shù)特性

介質(zhì)損耗和介電常數(shù)是各種電瓷、裝置瓷、電容器等陶瓷,還有復(fù)合材料等的一項(xiàng)重要的物理性質(zhì),通過測(cè)定介質(zhì)損耗角正切tanδ及介電常數(shù)(ε),可進(jìn)一步了解影響介質(zhì)損耗和介電常數(shù)的各種因素,為提高材料的性能提供依據(jù);儀器的基本原理是采用高頻諧振法,并提供了,通用、多用途、多量程的阻抗測(cè)試。

它以單片計(jì)算機(jī)作為儀器的控制,測(cè)量核心采用了頻率數(shù)字鎖定,標(biāo)準(zhǔn)頻率測(cè)試點(diǎn)自動(dòng)設(shè)定,諧振點(diǎn)自動(dòng)搜索,Q值量程自動(dòng)轉(zhuǎn)換,數(shù)值顯示等新技術(shù),改進(jìn)了調(diào)諧回路,使得調(diào)諧測(cè)試回路的殘余電感減至醉低,并保留了原Q表中自動(dòng)穩(wěn)幅等技術(shù),使得新儀器在使用時(shí)更為方便,測(cè)量值更為晶確。儀器能在較高的測(cè)試頻率條件下,測(cè)量高頻電感或諧振回路的Q值,電感器的電感量和分布電容量,電容器的電容量和損耗角正切值,電工材料的高頻介質(zhì)損耗,高頻回路有效并聯(lián)及串聯(lián)電阻,傳輸線的特性阻抗等。

電容測(cè)量

測(cè)量范圍:1~460pF(460pF以上的電容測(cè)量見使用規(guī)則);

電容量調(diào)節(jié)范圍

主調(diào)電容器:40~500pF;

準(zhǔn)  確  度:150pF以下±1.5pF;150pF以上±1%;

微調(diào)電容量:-3pF~0~+3pF;

準(zhǔn)  確  度:±0.2pF。

振蕩頻率

a.振蕩頻率范圍:25kHz~50MHz;

b.頻率分檔:25~74kHz,    74~213kHz,    213-700kHz,    700kHz~1.95MHz,

1.95MHz~5.2MHz,    5.2MHz~17MHz,    17~50MHz。

c.頻率誤差:2×10-4±1個(gè)字。

Q合格指示預(yù)置功能,預(yù)置范圍:5~999。

儀器正常工作條件

a. 環(huán)境溫度:0℃~+40℃;

b.相對(duì)濕度:<80%;

c.電源:220V±22V,50Hz±2.5Hz。

試樣尺寸圓片形:厚度2+0.5mm,直徑為Φ30~40mm(ε<12時(shí)),φ25~35mm(ε=12~30時(shí)),φ15~20mm(ε>30時(shí))

其他

a.消耗功率:約25W;

b.凈重:約7kg;

c. 外型尺寸:(l×b×h)mm:380×132×280。

Q合格指示預(yù)置功能

預(yù)置范圍:5~1000。

Q表正常工作條件

a. 環(huán)境溫度:0℃~+40℃;

b.相對(duì)濕度:<80%;

c.電源:220V±22V,50Hz±2.5Hz。

其他

a.消耗功率:約25W;

b.凈重:約7kg;

c. 外型尺寸:(l×b×h)mm:380×132×280。

四、全自動(dòng)抗干擾介質(zhì)損耗測(cè)試儀是一種新穎的測(cè)量介質(zhì)損耗角正切值(tgδ)和電容值(Cx)的智能化儀  介質(zhì)損耗測(cè)試儀圖片

器。可以在工頻高壓下,現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量各種絕緣材料、絕緣套管、電力電纜、電容器、互感器、變壓器等高壓設(shè)備的介質(zhì)損耗角正切值(tgδ)和電容值(Cx)。儀器為一體化結(jié)構(gòu),內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)電容器和升壓電源,體積小、重量輕,便于攜帶,具有操作簡(jiǎn)單、自動(dòng)測(cè)量、讀數(shù)直觀、無需換算、精度高、抗干擾能力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),亦可外接電源與本廠生產(chǎn)的各種規(guī)格的高電壓等級(jí)的標(biāo)準(zhǔn)電容器配套使用,用以測(cè)量高壓介損。

2.高壓輸出 2KV 5KV 10KV 三檔

容 量 1000VA

3. 精 度

tgδ范 圍 精度(正、反接法)

tgδ<15% △ tgδ:±(讀數(shù)*1.0%+0.05%)

關(guān)于高頻介電常數(shù)介質(zhì)損耗測(cè)試儀的技術(shù)性綜述文章框架及核心內(nèi)容,適用于工程師、研究人員或技術(shù)決策者參考:

高頻介電常數(shù)介質(zhì)損耗測(cè)試儀:原理、技術(shù)與應(yīng)用前沿

文摘

高頻介電性能(介電常數(shù)(varepsilon_r)和損耗角正切(tan delta))是材料在射頻(RF)、微波及毫米波領(lǐng)域的關(guān)鍵參數(shù)。本文系統(tǒng)解析高頻介電測(cè)試儀的技術(shù)原理、主流測(cè)量方法、系統(tǒng)組成、校準(zhǔn)挑戰(zhàn)及前沿發(fā)展趨勢(shì),為材料研發(fā)與工程應(yīng)用提供技術(shù)依據(jù)。

一、測(cè)量原理與核心參數(shù)

1.介電常數(shù)((varepsilon_r))

表征材料存儲(chǔ)電場(chǎng)能量的能力:(varepsilon_r=varepsilon j varepsilon)

實(shí)部(varepsilon'):極化能力;虛部(varepsilon''):能量損耗

2.介質(zhì)損耗角正切((tan delta))

定義:(tan delta=varepsilon/varepsilon'),損耗越低(tan delta)越小

直接決定器件Q值:(Q approx 1/tan delta)

二、主流測(cè)量技術(shù)方法

1.傳輸/反射法(頻域法)

原理:通過矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀(VNA)測(cè)量材料對(duì)入射電磁波的S參數(shù)((S_,S_)),反演(varepsilon_r)和(tan delta)

適用頻段:1 MHz–110GHz(覆蓋5G/6G毫米波)

常用夾具:

同軸空氣線(適用于粉末/液體):ASTM D5568

波導(dǎo)夾具(毫米波頻段):精度高,需精密機(jī)加工

微帶線/共面波導(dǎo)(CPW)夾具:兼容集成電路基板測(cè)試

算法:Nicolson Ross Weir(NRW)、迭代優(yōu)化算法

2.諧振法

原理:利用介質(zhì)諧振器或腔體,通過諧振頻率(f_0)和品質(zhì)因數(shù)(Q)計(jì)算參數(shù)

(varepsilon_r propto(f_text{airf_0)^2),(tan delta propto 1/Q)

優(yōu)勢(shì):超高精度(tan delta)低至(10^6,適合低損耗材料

類型:

圓柱腔法(TE(_{01 delta})模):IEC 61189 2

開式諧振腔:非接觸測(cè)量,適合薄膜/柔性材料

三、測(cè)試系統(tǒng)核心組件

|模塊|技術(shù)要求|

|||

|信號(hào)源|寬頻帶(DC~110 GHz)、高相位穩(wěn)定性|

|矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀|動(dòng)態(tài)范圍>130 dB,時(shí)域門功能抑制雜散反射|

|測(cè)試夾具|阻抗匹配(50Ω)、低駐波比(VSWR<1.2)|

|校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)件|SOLT(短路開路負(fù)載直通)、TRL(直通反射線)|

|軟件算法|材料參數(shù)反演、去嵌入(De embedding)、誤差修正|

四、技術(shù)挑戰(zhàn)與解決方案

1.校準(zhǔn)精度問題

挑戰(zhàn):夾具界面反射、電纜相位漂移、高階模耦合

方案:

TRL校準(zhǔn):消除夾具系統(tǒng)誤差(黃金標(biāo)準(zhǔn))

時(shí)域門(TDR):分離夾具與樣品的反射信號(hào)

2.高頻邊緣場(chǎng)效應(yīng)

挑戰(zhàn):>30 GHz時(shí),電磁場(chǎng)在樣品邊緣衍射導(dǎo)致誤差

方案:

樣品尺寸>5倍波長(zhǎng)((lambda))

采用模式匹配法修正邊緣場(chǎng)

3.薄膜/非均勻材料測(cè)試

方案:

開式諧振腔:分辨率達(dá)納米級(jí)薄膜

太赫茲時(shí)域光譜(THz TDS):擴(kuò)展至0.1~4 THz頻段

五、前沿技術(shù)趨勢(shì)

1.多物理場(chǎng)聯(lián)測(cè)系統(tǒng)

同步測(cè)量介電性能+導(dǎo)熱系數(shù)(如5G基站材料)

2.人工智能輔助優(yōu)化

深度學(xué)習(xí)反演算法:提升NRW法在強(qiáng)損耗材料中的精度

3.片上測(cè)量(On Wafer)

探針臺(tái)集成:直接測(cè)試晶圓級(jí)材料(180 GHz以上)

4.高溫/低溫原位測(cè)試

拓展至196°C(液氮)~500°C(航空航天熱工況)

六、標(biāo)準(zhǔn)與規(guī)范

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn):

IEEE 1528(天線罩材料)

IPC TM 650 2.5.5.5(PCB高頻測(cè)試)

IEC 60250(液體電介質(zhì))

中國(guó)國(guó)標(biāo):GB/T 1409 2006(固體絕緣材料)

七、選型指南

|需求場(chǎng)景|推薦技術(shù)方案

|毫米波材料(>30 GHz)|波導(dǎo)夾具+VNA(110 GHz)+TRL校準(zhǔn)

|超低損耗陶瓷((tan delta<10^))|圓柱諧振腔法

|柔性薄膜/生物材料

介質(zhì)損耗角正切測(cè)試儀




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